一直以来，实用新型专利都背负着“价值低”的虚无罪名。在很多人认知里，发明专利要比实用新型专利高大上一些、授权难度大一些；但实用新型专利就不一样了，创造性没那么强，而且相对来说好授权，所以整体价值是没有发明专利来得高。究其原因，则有以下几点：

1，保护客体不同。发明专利保护的客体主要是产品、方法、材料、系统等，而实用新型专利主要保护的是产品；

2，专利审查方式不同。发明专利是在对全球公开的专利文献和非专利文献检索的基础上进行的实质审查，即对该专利的新颖性、创造性、实用性进行全面审查，而实用新型专利则不用经过专利实质审查；

3，创造性标准不同。实用新型专利的创造性标准在立法上要低于发明专利，所以很多创造性水平低、急着将产品上市的企业都会选择申请实用新型专利。同时实用新型专利授权时间也较短，企业可以将专利产品尽快投入商业运营中；

4，专利权稳定性较差。由于实用新型专利不用经过实质审查，所以它的专利稳定性较差。在一些商业活动中，竞争对手之间会优先选择无效对方的实用新型专利，以起到清除障碍的目的。但是，能够在专利无效程序中幸存下来的实用新型专利，那就有可能是一个高价值专利。

以一个实例来说明。2016年2月16日，源德盛公司以“一种一体式自拍装置”专利为请求权基础，对广州星茂贸易有限公司发起专利纠纷诉讼，打响了源德盛公司以专利诉讼获取商业利益的第一枪。自此，源德盛公司开启了大规模的专利侵权诉讼扫街模式。截止目前，源德盛公司已经以侵犯其实用新型专利权为由，在全国各地提起了总计2659起侵权实用新型专利侵权诉讼。这2659起专利侵权诉讼中只有853起作出了一审判决。法院判决的赔偿金额大多为10000元。以此可初略估计，这件自拍杆的实用新型专利已经通过诉讼获利2000多万。

由此可见，实用新型专利也可以成为一个高价值专利。必要时，它能够在专利权人发起诉讼时化作有力武器，又能在被诉无效时稳住跟脚。所以，这就要求我们的企业IPR或专利代理人在撰写实用新型专利权利要求书时要放矢有度，最终创造出一个高价值的实用新型专利。

一般来讲，实用新型专利保护的客体是产品，主要涉及的是产品形状和结构，所以我们在撰写专利权利要求书时会围绕着附图展开描述。这时候，就要求我们不能把整个技术全盘托出，而是放矢有度。比如进行合理的概述，尽量采用上位概念的方式进行独立权利要求撰写，然后在从属权利要求中采取中位概念和下位概念对附加技术特征进行限定。

然而，在实际操作中我们会发现，因受限于专利申请的权利要求数量，我们往往会因此缺失某些具体下位概念，这就会导致我们在面临专利无效诉讼时，因缺失某项技术特征无法维持该专利有效。所以这就要求我们在撰写专利权利要求书时要面面俱到，无论是上位概念、中位概念还是下位概念，我们应该站在专利无效这一长远角度进行考量。